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凸版印刷與IBM簽署含22nm的光掩模制造工藝聯(lián)合開發(fā)協(xié)議

2008-06-26 08:36 來源：日經(jīng)BP社 責編：尤思佳

近日,，凸版印刷宣布與美國IBM簽署了共同開發(fā)最尖端光掩模技術(shù)的新協(xié)議,。此次的協(xié)議內(nèi)容涵蓋兩公司自2007年以來共同開發(fā)的支持32nm光掩模制造工藝的最終階段,，以及支持22nm光掩模制造工藝的全部開發(fā)階段。兩公司將從08年6月在美國佛蒙特州Essex Junction的IBM伯靈頓光掩模工廠開始進行共同開發(fā),。

根據(jù)此次協(xié)議,，在共同開發(fā)的支持32nm光掩模的制造工藝中，將整合凸版印刷在朝霞工廠（埼玉縣新座市）一直進行開發(fā)的支持32nm光掩模的制造工藝,。據(jù)凸版印刷稱,，此整合將進一步推進兩公司共同開發(fā)的光掩模制造工藝的優(yōu)化。

兩公司05年開始共同開發(fā)45nm工藝半導(dǎo)體用的光掩模,。07年在面向32nm工藝半導(dǎo)體的初期量產(chǎn)的開發(fā)上一直在擴大合作范圍,。此次的協(xié)議是其延續(xù)。為支援IBM East Fishkill工廠（美國紐約州）的22nm晶圓工藝開發(fā),，兩公司在繼45nm工藝及32nm工藝之后,，將制造并提供支持22nm工藝的光掩模。

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